Hua matua

Ko te High Purity ISO Graphite he mea hanga ma te Cold Isostatic Pressing (CIP) ki te whakatutuki i te kiato 3D i raro i te pehanga teitei (140–200 MPa). He mea hanga mai i te petroleum coke kua purea ki runga ake i te 2500 tohu, ka whakaatu tata ki -te kiato ariā me te isotropy pai rawa atu, e whakapumau ana i te mahinga puta noa i nga tono kanorau.

Tawhā Hangarau

Tawhā	Uara Matua
Kiato	1.80–1.92 g/cm³
Ihirangi pungarehu	Iti iho i te rite ranei ki te 100 ppm
Ōwehenga Anisotropy	1.0–1.05
Whakarea o te Roha Ngawha (CTE)	4.2–5.0 × 10⁻⁶/K (RT–400 tohu )
Maamaa	C He nui ake, he rite ranei ki te 99.9%
Te Whakawhitinga Ngawha	110–130 W/(m·K)
Te Kaha Toka	55–85 MPa

Ko nga hua e tautoko ana i nga whakaritenga whaiaro.

Nga waahanga matua

Tino -te parakore: Ultra-rarerehu/whakangana poke (Fe, Ca, Na), ICP-MS manatoko, uru poke -apure tairongo.
Kiato tino pai: He nui te kiato rahi, he iti te porosity, he whakanui i te kawe wera me te kaha miihini.
Isotropy: He iti noa nga rereketanga o te roha waiariki/te kaha flexible puta noa i nga ahunga.
Te atete wera nui: Ka mau i nga waahi teitei i roto i nga hau koretake (me whakakikoruatia i roto i nga taiao whakahaora i runga ake i nga waahi motuhake).
Te ātete te werawera: Ka mau ki nga huringa o te pāmahana me te kore e pakaru.
Mahinga tino tika: Ko te Kawhata ISO Parakore teitei e whakaatu ana i nga kaatete kikii ka taea te tukatuka ki nga waahanga uaua (nga kopae turbine, crucibles).

Nga tono matua

Semiconductor: Monocrystalline silicon furnace wāhanga waiariki/wafer kawe (te pāmahana teitei -ātete, ultra{1}}parapara iti).
Photovoltaic: Poirikiko ingot crucibles/whakawera (whakatutuki i te horonga rewa silicon).
Te pūngao karihi: teitei-hau wera{1}}reactor neutron reflectors (e tutuki ana i nga tohu karihi-).
Aerospace: Rocket nozzle korokoro kuhu/mate missile (atete te tino teitei -te werawera).
Te whakarewa -mutunga teitei: Titanium alloy rewa crucibles (ka taea te whakamahi ano, kaore he turuturu).
Taputapu Ahumahi: EDM electrodes/tiketike-weahanga oumu wera wahi matua.

Tiwhikete & Whakaritenga

Ko te High Purity ISO Graphite e tutuki ana ki te SEMI F76 ( semiconductor), ISO 8005 (karihi), EN 10298/ASME BPVC (haumaru), me nga paerewa RoHS 3.0 (taiao). Ko nga ratonga ritenga ko: silicidation (ki te whakarei ake i te aukati waikura), te impregnation tuarua (ki te whakanui i te kiato), me te ultra-arotautanga hanganga tino pai (hei whakapai ake i te uaua).